Advances in Cmp Polishing Technologies / Libristo.pl
Advances in Cmp Polishing Technologies

Kod: 12496490

Advances in Cmp Polishing Technologies

Autor Toshiro Doi, Ioan D. Marinescu, Syuhei Kurokawa


Niedostępna

Powiadomienie o dostępności

Dodaj do schowka

Zobacz książki o podobnej tematyce

Powiadomienie o dostępności

Powiadomienie o dostępności


Akceptacja - Zgłaszając nam chęć otrzymania powiadomienia, akceptujesz warunki Regulaminu

Będziemy sprawdzać dostępność książki za Ciebie

Wpisz swój adres e-mail, aby otrzymać od nas powiadomienie,
gdy książka będzie dostępna. Proste, prawda?

Więcej informacji o Advances in Cmp Polishing Technologies

Szczegóły książki

Kategoria Książki po angielsku Technology, engineering, agriculture Mechanical engineering & materials Mechanical engineering


250 000
zadowolonych klientów

Od roku 2008 obsłużyliśmy wielu miłośników książek, ale dla nas każdy był tym wyjątkowym.


Paczkomat 12,99 ZŁ 31975 punktów

Copyright! ©2008-24 libristo.pl Wszelkie prawa zastrzeżonePrywatnieCookies


Konto: Logowanie
Wszystkie książki świata w jednym miejscu. I co więcej w super cenach.

Koszyk ( pusty )

Kup za 299 zł i
zyskaj darmową dostawę.

Twoja lokalizacja: