Darmowa dostawa dla zamówień powyżej 299,00 zł.

Sprawdzić stan zamówienia

Zostań członkiem wspólnoty miłośników książek z całego świata i zyskaj mnóstwo korzyści. Załóż konto bezpłatnie

Darmowa dostawa z usługą Inpost oraz Orlen od 299.00 zł

DPD Kurier 12.99 zł Poczta Polska 18.99 zł Paczkomat 13.99 zł InPost Kurier 12.99 zł Punkt DPD 11.99 zł

Kontakt

Jak kupować

Pomoc

Moje konto

▸ Pusty :-(

Darmowa dostawa dla zamówień powyżej 299,00 zł.

Advanced Technologies Based on Wave and Beam Generated Plasmas

Name: Advanced Technologies Based on Wave and Beam Generated Plasmas
Brand: Springer
SKU: 01395996
Price: 982.12 PLN
Availability: InStock
Author: H. Schlüter
ISBN: 9780792356424

H. Schlüter

A. Shivarova

Język

Angielski

Książka Twarda

Kod Libristo: 01395996

Wydawnictwo Springer, luty 1999

This book draws together three areas of work on plasma technologies: advanced efforts based on wave... Cały opis

Kod Libristo: 01395996

548 b

Gwarancja
najlepszej
ceny ▸

982.12 zł

Dostępna u dostawcy w małych ilościach Wysyłamy za 13-18 dni

Nawet do 30 dni na zwrot

Klienci kupili także

Estudio contrastivo del regimen verbal en el portugues de Brasil y el espanol peninsular Shirley de Sousa Pereira

Miękka

204.71 zł

Na pjatdesjat' ottenkov temnee. Fifty Shades of Grey - Gefährliche Liebe, russische Ausgabe E. L. James

Twarda

80.03 zł

Die soziale Welt des Kindes William Damon

Miękka

47.50 zł

Oeuvres compl?tes; Volume 5 Jules Laforgue

Miękka

92.03 zł

COMO ELABORAR EL MANUAL AMBIENTAL DE LA EMPRESA SEGUN LA NOR TAXUS MEDIO AMBIENTE

Miękka

107.12 zł

(EUS).GEKOAK OIHARTZUNA ENTZUN ZUENEKOA BRIGHT

Książka

113.17 zł

Les murs de la revendication Chrixcel

Miękka

148.88 zł

SketchUp. Il 3D per tutti Marco Chiarello

Książka

192.70 zł

Kinder-Verwirr-Buch: mit vielen Illustrationen von Joachim Ringelnatz Joachim Ringelnatz

Twarda

34.06 zł

Comportamiento estratégico en un entorno competitivo de comercio electrónico

Miękka

212.20 zł

This book draws together three areas of work on plasma technologies: advanced efforts based on wave generated, high frequency plasmas, plasma assisted ion implantation, and electron beam generated plasma. It encompasses all the links in the progress from fundamentals to applications: the description and modelling of different plasma sources to technological use; from general diagnostics to methods related to technological control and operation of plasma reactors. The book lays a foundation for the application of sources in industry (in high-tech electronics, microelectronics, IC fabrication, plasma chemistry, lighting, new materials, optics, the biomedical industry, aerospace, etc.), and in astrophysics, atomic physics, laser physics, accelerator physics and microwave devices.