Kontakt
Jak kupować
Dostawa
Doradca ds. zakupów
Defects and Diffusion in Silicon Processing: Volume 469
Angielski
64 b
Zapowiedź
Termin nieznany
30 dni na zwrot towaru
Klienci kupili także
/
Miękka
106.51
zł
A strong effort is has been devoted to the investigation of defects and diffusion phenomena in silicon. This effort is not only driven by the stringent technological requirements for the processing of integrated circuits of increased complexity and miniaturization, but also by the lack of fundamental understanding of many of the critical parameters and mechanisms involved. Experimental and theoretical investigations are needed to identify the properties of the defects, the mechanisms of impurity diffusion and the strength of impurity-defect, defect-defect, and impurity-impurity interactions. This book provides a unique and interdisciplinary forum for the discussion of experimental, theoretical and applied aspects of defects and diffusion phenomena in silicon. Topics include: defect properties and diffusion phenomena in silicon; experimental and theoretical assessments of defect properties; transient-enhanced diffusion and dopant clustering; damage evolution and extended defects and gettering procedures.
Informacje o książce
Angielski
Podaruj tę książkę jeszcze dziś
To łatwe
1 Dodaj książkę do koszyka i wybierz „dostarczyć jako prezent” 2 W odpowiedzi wyślemy Ci bon 3 Książka dotrze na adres obdarowanegoMogłoby Cię także zainteresować
/
Miękka
78.93
zł
/
Miękka
85.98
zł
/
Miękka
63.12
zł
Cześć! Jestem Libroamiko, Twój doradca książkowy.
Jak mogę Ci pomóc?