Kontakt
Jak kupować
Dostawa
Doradca ds. zakupów
Angielski
78 b
Nawet do 30 dni na zwrot
Klienci kupili także
/
Miękka
44.23
zł
/
Miękka
52.04
zł
/
Miękka
190.75
zł
This book describes the principles and basic technologies of extreme ultraviolet lithography (EUVL). The topics include why research on EUVL was begun and why an exposure wavelength of 13.5 nm was selected; the design of the optical system, which employs reflective mirrors; the use of a multilayer film to make a reflective-type mask and how masks are inspected; an historical overview of the development of light sources; resist materials; and the recent performance of lithographic tools for mass production. Three innovations were key to the development: of Mo/Si multilayer films with a high reflectivity and to the shaping and metrology of aspherical mirrors with a precision of less than 0.1 nm. The technology for measuring figure error and the fabrication technology now meet the performance targets. Thus, EUVL has become the most promising lithographic technology for device fabrication at the 7-nm node.
Informacje o książce
Angielski
Kategoria
Podaruj tę książkę jeszcze dziś
To łatwe
1 Dodaj książkę do koszyka i wybierz „dostarczyć jako prezent” 2 W odpowiedzi wyślemy Ci bon 3 Książka dotrze na adres obdarowanegoMogłoby Cię także zainteresować
Cześć! Jestem Libroamiko, Twój doradca książkowy.
Jak mogę Ci pomóc?