Kod: 23917018
Development of general numerical simulation tools for chemical vapor deposition (CVD) was the objective of this study. Physical models of important CVD phenomena were developed and implemented into the commercial computational flu ... więcej
69.96 zł
Zwykle: 100.17 zł
Oszczędzasz 30.21 zł
Potrzebujesz więcej egzemplarzy?Jeżeli jesteś zainteresowany zakupem większej ilości egzemplarzy, skontaktuj się z nami, aby sprawdzić ich dostępność.
Development of general numerical simulation tools for chemical vapor deposition (CVD) was the objective of this study. Physical models of important CVD phenomena were developed and implemented into the commercial computational fluid dynamics software FLUEN
69.96 zł
Od roku 2008 obsłużyliśmy wielu miłośników książek, ale dla nas każdy był tym wyjątkowym.
Copyright! ©2008-24 libristo.pl Wszelkie prawa zastrzeżonePrywatnieCookies
Dobre na wszystkich stronach
Koszyk ( pusty )
Twoja lokalizacja: