Zobacz książki o podobnej tematyce

Więcej informacji o Chemical Vapor Deposition

• Dane szczegółowe
• Opis
• Ulubione w innej kategorii

Za ten zakup dostaniesz 420 punkty

Opis

This timely reference provides an integrated, ultidisciplinary approach to CVD on a relatively fundamental level, enabling researchers with a basic background in any engineering field to readily understand and apply CVD techniques. At the same time, it becomes the first work to address CVD from the perspective of the properties of thin films and show how to achieve these properties by understanding and modifying deposition conditions.

Szczegóły książki

Kategoria Książki po angielsku Technology, engineering, agriculture Electronics & communications engineering Electronics engineering

• Pełny tytuł: Chemical Vapor Deposition
• Podtytuł: Thermal and Plasma Deposition of Electronic Materials
• Autor: Srinivasan Sivaram
• Język: Angielski
• Oprawa: Miękka
• Liczba stron: 292
• EAN: 9781475747539
• ISBN: 1475747535
• ID: 02254097
• Wydawca: Springer-Verlag New York Inc.
• Waga: 474 g
• Wymiary: 235 × 155 × 17 mm
• Data wydania: 22. June 2013

Ulubione w innej kategorii

---

---

---